詳細(xì)摘要： 德Alpha Plasma 微波等離子去膠機(jī)，去膠快速*，無(wú)化學(xué)殘留物，無(wú)需干燥處理，對(duì)樣品無(wú)損傷，操作簡(jiǎn)單安全。

詳細(xì)摘要： 德國(guó) PVA TePla 等離子清洗機(jī)PlasmaPen 常壓等離子, 通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤(rùn)性,Plasma...

詳細(xì)摘要： 德國(guó) PVA TePla 等離子清洗機(jī)IoN 40, 靈活的電極設(shè)計(jì)保證了工藝的均勻性, 觸摸屏操作，圖形用戶界面（GUI）

詳細(xì)摘要： 德國(guó) PVA TePla 等離子清洗機(jī) IoN 100 WB , 是推出的具有高性價(jià)比的真空等離子清洗設(shè)備,可以迅速快捷的更換不同類型的電極結(jié)構(gòu)。

詳細(xì)摘要： IoN Wave 10E 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī), 使用的、性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。

詳細(xì)摘要： 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī) IoN 100WB-40Q， 配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、LED、MEMS等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物...

詳細(xì)摘要： 美國(guó) Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機(jī)，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料，并對(duì)所...

詳細(xì)摘要： 美國(guó) Harrick PDC-002 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料，并對(duì)所處理...

詳細(xì)摘要： 美國(guó) Harrich PDC-MG 高集成度等離子清洗機(jī)，是一款超清洗設(shè)備, 采用氣體作為清洗介質(zhì)，在短時(shí)間內(nèi)能**地清除被清洗物表面的有機(jī)污染物，其清洗能力達(dá)...

詳細(xì)摘要： Diener Bell Jar 35 研究型等離子清洗機(jī)，是一種研究設(shè)備，其專為科學(xué)試驗(yàn)所研發(fā)。該設(shè)備即適用于熱蒸發(fā)，濺射 ，電子束蒸發(fā)，SEM（掃描電子顯微鏡...